化學(xué)氣相沉積（CVD）設(shè)備是采用化學(xué)氣相沉積工藝在襯底表面生成高純致密、高性能的涂層薄膜的熱工設(shè)備。CVD技術(shù)具有沉積速率高、成膜易控制、均勻性和重復(fù)性好、臺階覆蓋優(yōu)良、使用范圍廣、設(shè)備簡單等優(yōu)點，工業(yè)領(lǐng)域已廣泛應(yīng)用于SiC、TaC、HfC、PyC等多種薄膜涂層制備。北方華創(chuàng)憑借深厚的CVD工藝控制技術(shù)、真空熱工技術(shù)、氣流溫度耦合場仿真技術(shù)積累，致力于為半導(dǎo)體新材料、新能源光伏等領(lǐng)域開發(fā)多種類型的CVD設(shè)備。北方華創(chuàng)開發(fā)的先進PyC、SiC、BN、Re等涂層設(shè)備，憑借優(yōu)秀的設(shè)備技術(shù)性能和工藝產(chǎn)能優(yōu)勢，獲得國內(nèi)行業(yè)主流客戶的高度認可，成為行業(yè)客戶擴產(chǎn)的優(yōu)選設(shè)備。